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產品型號:Huace800G
廠商性質:生產廠家
所在地:北京市
更新日期:2024-10-25
產品簡介:
品牌 | 華測 |
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高真空退火爐/高溫介電溫譜儀儀器介紹:
華測儀器開發(fā)了一種可實現(xiàn)精度高,高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置儀器,在高速加熱高速冷卻時,具有良好的溫度分布??蓪崿F(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護加熱式樣,無氣氛污染。可在高真空, 高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。
它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比,紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間,再試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面講,都能節(jié)省時間并提高實驗速度。同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單,有冷卻系,安全可靠。以提高試驗人員的工作效率,實現(xiàn)溫度控制操作!
高真空退火爐/高溫介電溫譜儀儀器原理:
原理為加熱絲或桂碳棒對爐體加熱,加熱與降溫速度慢,效率低下,也無法實現(xiàn)溫度的高的精度測量,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象。
高真空退火爐的反射鏡是具有精度高的曲率,采用5軸加工系統(tǒng)加工,以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。
設備優(yōu)勢:
高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng),增設氣體冷卻裝置,可實現(xiàn)快速冷卻。
溫度高的精度控制
過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用,可以精確控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動),操作簡單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
設備結構:
1、反射爐溫度控制裝置:
高速升溫時,配套的快速反應的控制裝置,本控制裝置采用可編程溫度控制器。高性能設計,響應速度快。
2、可選配置:
(1)干栗:抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;
(2)全量程真空規(guī):刀口法蘭接口,真空測量范圍5X10-7Pa到1atm;
(3)為了高速加熱、設備采用PID溫度控制,同時采用移相觸發(fā)技術保證試驗溫度;
(4)根據設備上的溫度控制器輸入參數,您也可以簡單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數據;
(5)自適應熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型;
(6)大可設定32個程序、256個步驟的程序;
(7)30A、60A、120A內置了 SCR電路,所以范圍很廣。
3、其他配置:
序號 | 項目 | 數量 | 品牌 | 備注 |
1 | 爐體 | 1 | 華測 | 大溫度1200℃ |
2 | 加熱源 | 1 | GE | |
3 | 溫度控制器 | 1 | 華測 | |
4 | 電熱偶 | 1 | omega | |
5 | 溫控表 | 1 | 歐姆龍 | |
6 | 穩(wěn)壓電源 | 1 | 華測 | 可定制 |
7 | 制冷水機 | 1 | 同飛 | 制冷功率8KW |
8 | 分子泵 | 1 | 萊寶 | CF法蘭,抽速≥40L/s,極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa |
儀器試樣試驗:
更多應用:
樣品腔內徑≥30mm; 退火爐外徑:≤100mm
1、電子材料
半導體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻)
熱源薄膜形成
激活離子注入后
硅化物的形成
2、陶瓷與無機材料
陶瓷基板退火爐
玻璃基板退火爐。
3、鋼鐵和金屬材料
薄鋼板加熱過程的數值模擬
爐焊接模擬
高真空熱處理(1000°c以下)
大氣氣體熔化過程
壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐
4、復合材料
耐熱性評價爐
無機復合材料熱循環(huán)試驗爐
5、其他
高溫拉伸壓縮試驗爐
分段分區(qū)控制爐
溫度梯度爐
爐氣分析
超導陶瓷退火爐